金属防磁盖之改良结构

摘要

一种金属防磁盖之改良结构，其主要系于一屏敝框部周缘设有垂直弯折之折边，可供结合于电路板上预设位置，而于该屏敝框部顶侧部位经冲压而呈一凸起之上盖，于该上盖设有一平整面，便于真空吸盘之吸取，且于该平整面周缘设有至少一插拔孔，而于该上盖周缘与屏敝框部衔接部位设有一冲压折线，该冲压折线系由复数相互间隔之断裂部及较细薄之衔接部组合而成，使该插拔孔受工具插入施力时，该衔接部极易断裂而使该上盖与屏敝框部分离。

主权项

1.一种金属防磁盖之改良结构,其至少包括:一屏蔽框部,周缘设有垂直弯折之折边,可供结合于电路板上预设位置;一上盖,系经冲压而凸起于该屏敝框部顶侧中央部位,于该上盖周缘与屏蔽框部衔接部位设有一冲压折线,且该冲压折线系由复数相互间隔之断裂部及较细薄之衔接部组合而成。2.如申请专利范围第1项所述之金属防磁盖之改良结构,其中该上盖至少于中央设有一平整面,且于该平整面周缘设有至少一插拔孔。3.如申请专利范围第1或2项所述之金属防磁盖之改良结构,其中该冲压折线之各衔接部系于冲压时由模具边缘以较大之间隙拉伸而成。图式简单说明:第1图系本创作之整体构造示意图。第2图系本创作冲压折线之断裂部剖面图。第3图系本创作冲压折线之衔接部剖面图。