| 摘要 |
본 발명은 웨이블릿 변환에서 마스크 필터링을 이용한 얼룩 결함 자동 검출 시스템 및 방법에 관한 것으로서, 대상물의 원본 이미지를 취득하는 영상 획득부, DCT(Discrete Cosine Transform) 계수를 이용하여 배경 이미지를 생성하는 배경 이미지 생성부 및 상기 원본 이미지에서 상기 배경 이미지 성분을 제거하고 이산 웨이블릿 변환을 적용하여 웨이블릿 근사화 계수와 웨이블릿 디테일 계수를 생성하는 웨이블릿 변환부를 포함하는 영상 처리부 및 상기 웨이블릿 근사화 계수의 표준편차를 이용하여 얼룩 마스크를 생성하는 얼룩 마스크 생성부및 상기 웨이블릿 디테일 계수에 마스크 필터링을 적용하여 얼룩을 강조하는 마스크 필터링부를 포함하는 영상 해석부를 포함함으로써, 배경 영역과 명암 차이가 작은 얼룩 결함을 효과적으로 검출할 수 있다. |
