发明名称 RADIO FREQUENCY(RF)-SPUTTER DEPOSITION SOURCE, DEPOSITION APPARATUS AND METHOD OF ASSEMBLING THEREOF
摘要 진공 챔버에서의 스퍼터 증착을 위한 스퍼터 증착 소스가 설명된다. 소스는, 진공 챔버의 벽 부분; 스퍼터 증착 동안에 증착될 재료를 제공하는 타겟; 타겟에 RF 전력을 제공하기 위한 RF 전력 공급부; RF 전력 공급부와 타겟을 연결시키기 위한 전력 커넥터; 및 진공 챔버의 내부로부터 진공 챔버의 외부로 벽 부분을 통해 연장되는 전도체 로드를 포함하며, 전도체 로드는 진공 챔버의 내부에서 하나 또는 그 초과의 컴포넌트들에 연결되고, 전도체 로드는 진공 챔버의 외부에서 RF 전력 공급부에 연결되어, 전도체 로드를 통하는 정의된 RF 리턴 경로를 생성한다.
申请公布号 KR20160085282(A) 申请公布日期 2016.07.15
申请号 KR20167014965 申请日期 2013.11.05
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 KELLER STEFAN;SCHUESSLER UWE;HAAS DIETER;BANGERT STEFAN
分类号 H01J37/32;H01J37/34 主分类号 H01J37/32
代理机构 代理人
主权项
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