发明名称 SOLID-STATE IMAGING DEVICE METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME AND ELECTRONIC APPARATUS
摘要 화소를 포함하는 고체 촬상 장치에 있어서, 상기 화소는, 기판 내부에 형성된 매입형 포토 다이오드와; 상기 기판에 형성된 트렌치부 저부에 면하는 기판 내로서, 상기 매입형 포토 다이오드와 동등한 깊이에 형성된 매입형 플로팅 디퓨전과; 상기 매입형 포토 다이오드로부터 상기 매입형 플로팅 디퓨전에 신호 전하를 전송하기 위해, 상기 트렌치부 내의 저부에 형성된 매입형 게이트 전극으로 구성된다.
申请公布号 KR101640260(B1) 申请公布日期 2016.07.15
申请号 KR20100067299 申请日期 2010.07.13
申请人 소니 주식회사 发明人 와타나베 타이이치로;와타나베 카즈후미
分类号 H01L27/146;H01L27/148;H04N5/225 主分类号 H01L27/146
代理机构 代理人
主权项
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