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Vorrichtung (100) zum Bearbeiten eines Substrats, aufweisend: - wenigstens eine Vakuumkammer (10), in der ein definierter Gasdruck einstellbar ist; - eine Heizeinrichtung zum Ausheizen des Substrats; und - eine außerhalb der Vakuumkammer (1 0) angeordnete Lasereinrichtung (20), wobei die Lasereinrichtung (20) relativ zum Substrat bewegbar ist, wobei mittels der Lasereinrichtung (20) wenigstens eine Kaverne des in der Vakuumkammer (10) anordenbaren Substrats durch Aufschmelzen von Substratmaterial verschließbar ist. |
