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发明名称 METODO PER LA DEPOSIZIONE DI STRATI SOTTILI CON ASSISTENZA DI IONI DA PLASMA RF.
摘要
申请公布号 IT9047800(A1) 申请公布日期 1991.09.29
申请号 IT19900047800 申请日期 1990.03.28
申请人 SELENIA INDUSTRIE ELETTRONICHE ASSO CIATE S.P.A. 发明人 MANCINI CALISTO;VARASI MAURO
分类号 C23C;C23C14/32 主分类号 C23C
代理机构 代理人
主权项
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