| 主权项 |
1.一种制备如下式化合物之制法其中R为-CH2CX=CH2或三甲基乙醯氧甲基;R1系为二甲基—第三—丁基甲矽烷基;R2系为1-氧代-3-茂院基;以及X为H或Cl其包括(a)令式(1)化合物与莫耳过量之AgNO3于莫耳过量 啶之存在下,于反应惰性溶剂中,于-25至25℃之温度范围内起反应,继而以H2S处理以形成式(2)化合物(b)将上述式(2)化合物与实质一莫耳当量之对位一硝苯基氯基甲酸酯于实质一莫耳当量之4-(二甲胺基) 啶之存在下,于反应情性溶剂中,于约-25至25之温度范围内进行醯化作用以形成式(3)化合物之溶液(c)令上述式(3)化合物之溶液与莫耳过量之六甲基二甲矽烷基胺化锂于-50至-100℃之温度范围内起反应以形成式(4)化合物(d)令上述式(4)化合物与实质一莫取当量之三氟甲烷磺酸酐于实质莫耳过量之二异丙基乙胺之存在下,于反应惰性溶剂中,于约-40至-90℃之温度范围内起反应,以形成式(5)化合物(e)令上述式上述(5)化合物与至少一莫耳当量之HS-R2于约0至-90℃之温度范围内起反应,即形成上述之式(6)化合物。2.如下式(8)之化合物其中R为-CH2CX=CH2或三甲基乙醯氧甲基;X为H或Cl;R1二甲基—第三—丁基甲矽院基;以及Z,X1及X2乃结合在一起,共同形成-O-SO2CF3;或者Z,X1及X2乃个自存在,X1及X2各为氢且Z为对位一硝苯氧羰基。3.如下式之化合物其中R为-CH2CX=CH2或三甲基乙醯氧甲基;X为H或Cl;R1二甲基—第三—丁基甲矽烷基;以及R9 |
