CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE APPARATUS,申请号KR19970054997-传众专利搜索

发明名称	CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE APPARATUS
摘要
申请公布号	KR100256291(B1)	申请公布日期	2000.06.01
申请号	KR19970054997	申请日期	1997.10.25
申请人	FUJITSU LIMITED	发明人	YAMADA, AKIO;YASUDA, HIROSHI;HIDEFUMI, YABARA;ATSUSHI, SAITO
分类号	H01L21/027;H01J37/304;H01J37/317;(IPC1-7):H01L21/027	主分类号	H01L21/027
代理机构		代理人
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