| 主权项 |
1.一种盖体之结构改良,其系包括:一座体,该座体之一端面系具有一开口,且该座体之开口处系具有一限制部,并于该座体二侧内缘分别设置有一导槽;一掀盖,该掀盖之二侧系活动设置于上述座体之导槽中,且可供滑动盖设于开口上方,而该掀盖之一端系设有一止挡部,该止挡部系可对应上述座体开口处之限制部,并该掀盖之另一端设有一延伸部。2.依据申请专利范围第1项所述之盖体之结构改良,其中,该座体系由二侧板、一设置于二侧板间之横板及一设置于二侧板一端之背板所构成,而该导槽系设置于二侧板之内侧且呈对应之状态。3.依据申请专利范围第2项所述之盖体之结构改良,其中,该二侧板之端缘系具有一平面部及一斜面部,而该横板系设置于二侧板平面部之位置处。4.依据申请专利范围第2项所述之盖体之结构改良,其中,该横板之端面上系可设置有一可供插设标签纸之插槽。5.依据申请专利范围第1项所述之盖体之结构改良,其中,该座体之开口处底缘系设置有一挡板。6.依据申请专利范围第1项所述之盖体之结构改良,其中,该座体之底部系可设置有一底座,且该底座之一端系向上延伸有一挡板,使该挡板设置于座体之开口处底缘。7.依据申请专利范围第1项所述之盖体之结构改良,其中,该掀盖之延伸部端而适当处系设置有一把手。8.依据申请专利范围第1项所述之盖体之结构改良,其中,该限制部二端系可分别配合一固定元件固设于二侧板上,且定位于座体之开口处。图式简单说明:第1图,系本创作之立体外观示意图。第2图,系本创作之立体分解示意图。第3图,系本创作之使用状态示意图。第4图,系本创作之使用状态侧视图。第5图,系本创作之实施例示意图。第6图,系本创作另一实施例之立体外观示意图。第7图,系本创作另一实施例之立体分解示意图。第8图,系习用状态之示意图。 |
