发明名称 TRANSISTOR SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING THE TRANSISTOR AND MANUFACTURING METHOD OF THE TRANSISTOR AND THE SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要 본 발명은 산화물 반도체층을 갖는 트랜지스터 또는 상기 트랜지스터를 구비한 반도체 장치에 있어서, 전기적 특성의 열화가 억제하는 것을 하나의 과제로 한다. 산화물 반도체를 채널층으로서 사용하는 트랜지스터에 있어서, 산화물 반도체층 표면과 접촉되도록 실리콘층이 형성됨과 함께, 상기 실리콘층 위에 불순물 반도체층이 형성되고, 상기 불순물 반도체층에 전기적으로 접속되도록 소스 전극층 및 드레인 전극층이 형성되는 구성이 된다.
申请公布号 KR101635624(B1) 申请公布日期 2016.07.04
申请号 KR20100010956 申请日期 2010.02.05
申请人 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 发明人 사카타 준이치로;고도 히로미치;시마즈 타카시
分类号 H01L29/786 主分类号 H01L29/786
代理机构 代理人
主权项
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