| 发明名称 |
ORGANIC SOLVENT DEVELOPMENT OR MULTIPLE DEVELOPMENT PATTERN-FORMING METHOD USING ELECTRON BEAMS OR EUV RAYS |
| 摘要 |
(1) 산분해성 반복단위를 함유하고 산의 작용에 의해 유기용제에서 용해도를 감소시킬 수 있는 수지를 포함하는 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물로 막을 형성하는 공정; (2) 전자빔 또는 EUV선으로 상기 막을 노광하는 공정; 및 (4) 유기용제를 함유하는 현상액으로 상기 막을 현상하는 공정을 순서대로 포함하는 패턴형성방법을 제공한다. |
| 申请公布号 |
KR20160087915(A) |
申请公布日期 |
2016.07.22 |
| 申请号 |
KR20167018817 |
申请日期 |
2010.02.19 |
| 申请人 |
FUJIFILM CORPORATION |
发明人 |
TSUBAKI HIDEAKI;SHIRAKAWA KOJI;TSUCHIHASHI TORU |
| 分类号 |
H01L21/027;G03F7/039;G03F7/32 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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