| 发明名称 |
POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME |
| 摘要 |
본 발명은 포지티브형 감광성 조성물로서, (A) 본 명세서에 기재된 바와 같이 일반식(1)로 나타내어지는 반복단위 및 본 명세서에 기재된 바와 같이 일반식(2)로 나타내어지는 반복단위를 갖고 산의 작용에 의해 알칼리 현상액에 대한 수지(A)의 용해성을 증가시킬 수 있는 수지; (B) 활성 광선 또는 방사선의 조사시에 산을 발생할 수 있는 화합물; 및 용제를 포함하고, 포지티브형 감광성 조성물을 사용하는 패턴 형성 방법을 제공한다. |
| 申请公布号 |
KR101641977(B1) |
申请公布日期 |
2016.07.22 |
| 申请号 |
KR20117004695 |
申请日期 |
2009.09.29 |
| 申请人 |
후지필름 가부시키가이샤 |
发明人 |
후쿠하라 토시아키;시부야 아키노리;카토 타카유키 |
| 分类号 |
C08F20/28;G03F7/004;G03F7/039;H01L21/027 |
主分类号 |
C08F20/28 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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