| 发明名称 |
Verfahren zum Herstellen einer Halbleiteranordnung mit mindestens drei Zonen von abwechselnd unterschiedlichem Leitungstyp |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
AT264593(B) |
申请公布日期 |
1968.09.10 |
| 申请号 |
AT19670000341 |
申请日期 |
1967.01.12 |
| 申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
|
| 分类号 |
H01L21/00;H01L21/22;H01L29/00;H01L29/73 |
主分类号 |
H01L21/00 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
