| 发明名称 |
Method for the surface treatment of semiconductor devices |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
US3409979(A) |
申请公布日期 |
1968.11.12 |
| 申请号 |
US19660523259 |
申请日期 |
1966.01.27 |
| 申请人 |
INTERNATIONAL STANDARD ELECTRIC CORPORATION |
发明人 |
SWAMY ANANTHA;THIEMANN ROLF |
| 分类号 |
C23F1/24;H01L21/00;H01L21/306 |
主分类号 |
C23F1/24 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
