发明名称 LIQUID FILM INTERFACE COOLING CHUCK FOR SEMICONDUCTOR WAFER PROCESSING.
摘要 Un ensemble (10) constitué par un plateau de refroidissement réalisé au moyen d'un contact avec un liquide comprend une partie de serrage (12) comportant une surface supérieure (16) pourvue de trois rainures séparées de circit de refroidissement usinées dans ladite surface et une surface inférieure (64) comportant un circuit de refroidissement en double spirale usiné dans ladite surface. La partie de serrage (12) est brasée à la surface supérieure plate (18) de la partie de support (14) possédant une surface inférieure dans laquelle sont usinées des nervures profilées. Les trois circuits de refroidissement de la partie de serrage (12) sont alimentés en liquide, afin de créer un contact liquide entre une tranche et la surface supérieure (16) de ladite partie de serrage (12). On fait également circuler un fluide de refroidissement à travers le circuit de refroidissement de la surface inférieure.
申请公布号 EP0581768(A1) 申请公布日期 1994.02.09
申请号 EP19910914642 申请日期 1991.07.25
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 DEL PUERTO, SANTIAGO, E.;GASCHKE, PAUL, M.
分类号 B23Q3/08;H01L21/00;H01L21/66;H01L21/683;H01L21/687;(IPC1-7):H01L23/34;H01L23/473 主分类号 B23Q3/08
代理机构 代理人
主权项
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