检查次解析度辅助特征的系统及方法

摘要

根据本发明，提供一系统(200)及一检查具有次解析度辅助特征(sub-resolution assist features，SRAFs)之光罩布局(mask layout)之方法。检查程式(212)将各主要特征之各边缘分割成区段(sections)，且在一段距离内以垂直搜寻之方式形成一组区块(segments)，以判断是否有特征之任何部份位于该段距离内。并根据是否有特征位于该区块邻近区域内来标示区块。分类程式(216)则得根据区块资料(214)分类各主要特征。