| 摘要 |
이미징 광학기기(7)는 다수의 거울(M1 내지 M6)을 갖는다. 이들 거울은 오브젝트 평면(5)의 오브젝트 필드를 이미지 평면(9)의 이미지 필드에 이미징한다. 거울 중 적어도 하나(M5, M6)는 이미징 광(3)의 통과를 위한 관통구(18, 19)를 갖는다. 거울(M1 내지 M6)은, 주 광선이 오브젝트 평면(5)과 제 1 하류 거울(M1) 사이의 이미징 광(3)의 빔 경로에서 평행으로 또는 발산하여 진행하도록 배치된다. 본 발명의 제 1 구성에서, 이미징 광학기기(7)는, 오브젝트 평면(5) 전방의 5m와 2000m 사이의 범위에서 이미징 광(3)의 빔 경로에 놓인 입사 동공 평면을 갖는다. 본 발명의 제 2 구성에서, 이미징 광학기기는, 오브젝트 평면(5) 전방 100mm와 5000mm 사이의 범위에서 이미징 광의 빔 경로에 놓인 입사 동공 평면을 갖는다. 결과적으로 개선된 이미징 품질을 갖는 이미징 광학기기를 얻는다. |
