| 发明名称 |
Apparatus for depositing ionized electron beam evaporated material on a negatively biased substrate |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US3404084(A) |
申请公布日期 |
1968.10.01 |
| 申请号 |
US19650498958 |
申请日期 |
1965.10.20 |
| 申请人 |
GENERAL PRECISION SYSTEMS INC. |
发明人 |
HAMILTON HAROLD J. |
| 分类号 |
C23C14/30;C23C14/32;H01J37/36 |
主分类号 |
C23C14/30 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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