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发明名称 GAS NOZZLING DEVICE FOR REFRACTORY METAL FILM DEPOSITION OF SEMICONDUCTOR APPARATUS
摘要
申请公布号 KR920004057(Y1) 申请公布日期 1992.06.20
申请号 KR19880022173U 申请日期 1988.12.30
申请人 KOREA TELECOMMUNICATION CORP.;KOREA ELECTRONICS & TELECOMMUNICATION RESEARCH INSTITUTE 发明人 KIM, SANG - HO;KIM, BONG - KU;LEE, YONG - SU;HAN, JAE - SOP;KIM, JONG - SON;KANG, SU - IL
分类号 H01L21/20;(IPC1-7):H01L21/20 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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