| 发明名称 |
Plasma processing method and apparatus |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG30311(A1) |
申请公布日期 |
1996.06.01 |
| 申请号 |
SG19950000123 |
申请日期 |
1995.03.17 |
| 申请人 |
HITACHI, LTD |
发明人 |
FURUSE MUNEO;WATANABE SEIICHI;SHIRAYONE SHIGERU;KAJI TETSUNORI |
| 分类号 |
H01L21/302;(IPC1-7):H01L21/302 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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