发明名称 |
Radiation-sensitive composition and its use |
摘要 |
Ein strahlungsempfindliches Gemisch enthält folgende Komponenten: ein filmbildendes Polymer, das einen säurelabilen, hydrolysestabilen Polymerbaustein und einen thermisch stabilen Polymerbaustein aufweist; eine bei Bestrahlung eine Säure freisetzende strahlungsempfindliche Verbindung; ein Lösemittel; gegebenenfalls Additive. Dieses strahlungsempfindliche Gemisch kann zur Herstellung von positiven oder negativen Reliefstrukturen dienen, jeweils mit einem wäßrigen Entwickler.
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申请公布号 |
EP0957399(A2) |
申请公布日期 |
1999.11.17 |
申请号 |
EP19990107110 |
申请日期 |
1999.04.12 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
HIEN, STEFAN DR.;SEBALD, MICHAEL DR. |
分类号 |
H01L21/027;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/075;(IPC1-7):G03F7/004 |
主分类号 |
H01L21/027 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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