发明名称 Radiation-sensitive composition and its use
摘要 Ein strahlungsempfindliches Gemisch enthält folgende Komponenten: ein filmbildendes Polymer, das einen säurelabilen, hydrolysestabilen Polymerbaustein und einen thermisch stabilen Polymerbaustein aufweist; eine bei Bestrahlung eine Säure freisetzende strahlungsempfindliche Verbindung; ein Lösemittel; gegebenenfalls Additive. Dieses strahlungsempfindliche Gemisch kann zur Herstellung von positiven oder negativen Reliefstrukturen dienen, jeweils mit einem wäßrigen Entwickler.
申请公布号 EP0957399(A2) 申请公布日期 1999.11.17
申请号 EP19990107110 申请日期 1999.04.12
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 HIEN, STEFAN DR.;SEBALD, MICHAEL DR.
分类号 H01L21/027;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/075;(IPC1-7):G03F7/004 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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