使用臭氧化醋酸酐以移除光阻材料之系统

摘要

本发明系关于一种自一矽晶圆移除光阻材料之方法,其系藉由将一于其上具有光阻材料之矽晶圆暴露于一已臭氧化之醋酸酐之溶质,由此自该矽晶圆移除该光阻材料。