发明名称 Ausrichtungsverfahren, Verfahren zur Inspektion von Überlagerungsfehlern und Photomaske
摘要
申请公布号 DE60127029(D1) 申请公布日期 2007.04.19
申请号 DE20016027029 申请日期 2001.06.08
申请人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA, KAWASAKI 发明人 SATO, TAKASHI;INOUE, SOICHI
分类号 G03F7/20;G03F9/00 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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