| 发明名称 |
Verfahren und Prozessreaktor zur sequentiellen Gasphasenabscheidung mittels einer Prozess- und einer Hilfskammer |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
DE10245537(B4) |
申请公布日期 |
2007.04.19 |
| 申请号 |
DE20021045537 |
申请日期 |
2002.09.30 |
| 申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
HECHT, THOMAS;LUETZEN, JOERN |
| 分类号 |
C23C16/455;C23C16/44;C23C16/54;C30B25/14 |
主分类号 |
C23C16/455 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
