发明名称 |
红外光学薄膜保护膜及其制备方法 |
摘要 |
本发明涉及薄膜制备技术,具体涉及一种红外光学薄膜保护膜及其制备方法,其特征在于:所述保护膜镀于红外光学薄膜的外层,所述保护膜为至少包含有一个非水解基团和一个可水解基团的有机硅化物;在镀膜设备中利用电子枪或阻蒸方法在基板上制备多层红外光学薄膜,在同一镀膜设备中利用阻蒸方法在所述多层红外光学薄膜外层制备保护膜。本发明的优点是:1)能够有效保护红外光学薄膜,硬度高,抗摩擦性佳,同时对红外光学薄膜的特性改变较小。2)与常规红外光学薄膜的制备方法兼容,工艺匹配性比较好,镀膜温度较低,成本相应降低。 |
申请公布号 |
CN105785483A |
申请公布日期 |
2016.07.20 |
申请号 |
CN201610359598.2 |
申请日期 |
2016.05.27 |
申请人 |
光驰科技(上海)有限公司 |
发明人 |
李刚正;孙英会 |
分类号 |
G02B1/14(2015.01)I;C23C14/12(2006.01)I |
主分类号 |
G02B1/14(2015.01)I |
代理机构 |
上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 |
代理人 |
徐小蓉 |
主权项 |
一种红外光学薄膜保护膜,其特征在于:所述保护膜镀于红外光学薄膜的外层,所述保护膜为至少包含有一个非水解基团和一个可水解基团的有机硅化物,其中所述可水解基团与所述红外光学薄膜发生缩水反应使所述保护膜与所述红外光学薄膜紧密结合,所述非水解基团暴露在空气中用于抗摩擦。 |
地址 |
200444 上海市宝山区宝山城市工业园区城银路267号 |