Verfahren zum Herstellen von homogenen Schützschichten aus Siliziumnitrid,申请号CH19680001887-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	Verfahren zum Herstellen von homogenen Schützschichten aus Siliziumnitrid
摘要
申请公布号	CH497543(A)	申请公布日期	1970.10.15
申请号	CH19680001887	申请日期	1968.02.07
申请人	INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION	发明人	YOUNG DOO,VEN;RAY NICHOLS,DONALD;AVONNE SILVEY,GENE
分类号	C01B21/068;C23C16/34;H01L21/318;(IPC1-7):C23C11/14;B01J17/00	主分类号	C01B21/068
代理机构		代理人
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