METHOD OF FORMING GLASS FILM ON SEMICONDUCTOR SUBSTRATE,申请号JP19790003971-传众专利搜索

发明名称	METHOD OF FORMING GLASS FILM ON SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号	JPS5596640(A)	申请公布日期	1980.07.23
申请号	JP19790003971	申请日期	1979.01.19
申请人	HITACHI LTD	发明人	YASUDA YASUMICHI;TANAKA TOMOYUKI
分类号	H01L21/316;H01L21/56	主分类号	H01L21/316
代理机构		代理人
主权项
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