洗净半导体制造装置用溶剂

摘要

本发明系提供一种为洗净去除洗净用溶剂，特别是残留之树脂组成物的树脂组成物用洗净用溶剂，至少含有沸点为100℃以上之醇系溶剂之溶剂。以至少含有沸点为100℃以上之醇系溶剂之溶剂做为本发明洗净用溶剂。做为该溶剂者以至少任意一种选自n–丁醇、异丁醇、n–戊醇、4–甲基–2–戊醇、及2–辛醇者宜，更佳者为异丁醇。