发明名称
摘要 A novel photomask structure and method of producing photomasks using a non-contacting spark-discharge recording apparatus. The recording constructions of the present invention comprise a conductive layer, a layer transparent to the radiation that will be used to expose the target photosensitive material and, optionally, a coating layer deposited over the metal layer.
申请公布号 JPH05503172(A) 申请公布日期 1993.05.27
申请号 JP19910504894 申请日期 1991.01.29
申请人 发明人
分类号 G03F1/00;G03F1/14;G03F1/68;H05K3/00 主分类号 G03F1/00
代理机构 代理人
主权项
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