VAPOUR DEPOSITION METHOD FOR FABRICATING LITHIUM-CONTAINING THIN FILM LAYERED STRUCTURES

摘要

다중-층 박막 구조를 준비하기 위한 기상 증착 방법은 제 1 층을 위하여 의도된 화합물 및 제 2 층을 위해 의도된 화합물의 각각의 컴포넌트 엘리먼트의 증기 소스를 제공하는 단계 ― 증기 소스들은 적어도 리튬 소스, 산소 소스, 하나 또는 그 초과의 유리-형성 엘리먼트들의 소스 또는 소스들, 및 하나 또는 그 초과의 전이 금속들의 소스 또는 소스들을 포함함 ―; 기판을 제 1 온도로 가열하는 단계; 적어도 리튬, 산소 및 하나 또는 그 초과의 전이 금속들로부터의 컴포넌트 엘리먼트들을 가열된 기판상에 동시 증착하는 단계 ― 컴포넌트 엘리먼트들은 결정질 리튬-함유 전이 금속 산화물 화합물의 층을 형성하기 위하여 기판상에서 반응함 ―; 기판을 제 1 온도로부터 실질적으로 170℃ 또는 그 미만의 온도 범위 내의 제 2 온도로 가열하는 단계; 및 적어도 리튬, 산소 및 하나 또는 그 초과의 유리의 증기 소스들로부터의 컴포넌트 엘리먼트들을 가열된 기판상에 동시 증착하는 단계 ― 컴포넌트 엘리먼트들은 비결정질 리튬-함유 산화물 또는 산질화물 화합물의 층을 형성하기 위하여 기판상에서 반응함 ―를 포함한다.