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发明名称
具有自动夹头清洗及基片冲洗槽的湿式清洗装置及方法
摘要
本发明系关于将在湿式清洗装置中用于清洗抓持基片之自动夹头(Robot Chuck)之自动夹头清洗槽与用于冲洗经清洗处理之基片之基片冲洗槽合为一体的自动夹头清洗及基片冲洗槽,以及具有该自动夹头清洗及基片冲洗槽之湿式清洗装置及基片清洗方法。本发明所提供之自动夹头清洗及基片冲洗槽包含上端开放之在内部装有去离子水之容器、可旋动地设置在该容器上部用于开闭该容器上端之封盖、设在该封盖内侧之乾燥装置。
申请公布号
TW200733211
申请公布日期
2007.09.01
申请号
TW095149285
申请日期
2006.12.27
申请人
K. C. 科技股份有限公司
发明人
赵显佑
分类号
H01L21/30(2006.01)
主分类号
H01L21/30(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
韩国
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