| 主权项 |
1﹒一种光阻组成物,其包括:(a)20至90重量百分比之一支链型聚合物,其带有一对酸不安定且重覆地存在的侧基,且该侧基为一羧酸之一t一丁基酯基团或一酚类之一特─丁基碳酸酯基团;(b)10至80重垒百分比之一聚合物,其含有一在升高温度下会与由聚合物(a)之侧基经酸分解所生成的基团反应之基团,且该基团为羟基,以及(c)依据组份(a)及(b)的总量为0﹒1至50重量百分比之一光聚合起始剂,其在一米照射下反应生成一酸。其中该组份(b)聚合物之制备系藉由聚合一择自下列群中之单体:(甲基)丙烯酸3─羟基乙酯、(甲基)内烯磁3─羟其丙酯、(甲基)内烯酸缩水甘油酯及烯丙基缩水甘油醚;及一任择的可共聚化单体。2﹒如申请专利范围第1项之光阻组成物,更包括一光感应剂,其量依据该等组份(a)及(b)之总重为0﹒01至10重量百分比。3﹒一种光阻组成物,其包括:(d)一支链型聚合物,其带有一对酸不安且重覆存在的侧基,且该侧基为一羧酸之一t─丁基酯基团或一酚类之一特一丁基碳酸酯基团,以及一在升高温度下会与该侧基经酸分解所生成的基团反应之基团,且该甚团为羟基,以及(c)依据组份(d)之量为0﹒1至50重量百分比之一光聚合起始剂,该光聚合起始剂在一光照射下反应生成一酸。4﹒如申请专利范围第3项之光阻组成物,更包括一光感应剂,其量依据该组份(d)重为0﹒01至10重量百分比。 |
