| 摘要 |
<p>Die Anlage zur Behandlung von Gütern, insbesondere zur Beschichtung von Substraten, unter Vakuum, mit einem gasdicht verschliessbaren, evakuierbaren und mit einer Atmosphäre aus inertem Gas versehbaren Vakuum-Arbeitsbehälter (Rezipienten), ist gekennzeichnet durch eine Einrichtung zur Kalibrierung des Gasdruckes im Rezipienten für einen jeweiligen Arbeitszyklus, mit einem Kalibrierungs-Druckbehälter (2) mit einem Volumen (v) geringer als das Volumen (V) des Rezipienten (1), welcher Kalibrierungs-Druckbehälter (2) über ansteuerbare Ventilmittel (3,4) einerseits mit einer Quelle inerten Gases und andrerseits mit dem Rezipienten (1) strömungsverbunden ist, wobei der Rezipient (1) und der Kalibrierungs-Druckbehälter (2) je über einen Druckmesser (5 resp. 6) mit einem Rechner (7) verbunden sind, der über ein nachgeschaltetes Steuergerät (8) die Ventilmittel (3,4) zur Einleitung des Gases in den Kalibrierungs-Druckbehälter (2) resp. die Ausgleichströmung in den Rezipienten (1) steuert. Durch diese Massnahmen ist nunmehr eine Kalibrierung des Gasdruckes in einer gasdicht verschliessbaren, evakuierbaren und mit einer Atmosphäre aus inertem Gas versehbaren Vakuum-Beschichtungskammer (Rezipienten) möglich, derart, dass eine vorgegebene konstante Gaskonzentration im Rezipienten innerhalb eines Arbeits- resp. Behandlungszyklus wiederholbar gewährleistet ist. <IMAGE></p> |
