| 发明名称 |
Metal-insulator-metal capacitor and process for making the same |
| 摘要 |
<p>Ein Kondensatorstapel (12) in einer Schichtstruktur eines integrierten Bauelements weist mit Ausnahme einer dielektrischen Zwischenschicht (5) die gleiche Schichtfolge wie eine benachbarte Leiterbahn (13) auf. Dadurch wird die Herstellung von Vias (16) wesentlich erleichtert. <IMAGE></p> |
| 申请公布号 |
EP1132973(A1) |
申请公布日期 |
2001.09.12 |
| 申请号 |
EP20000104821 |
申请日期 |
2000.03.06 |
| 申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
SCHRENK, MICHAEL;SCHWERD, MARKUS;LACHNER, RUDOLF,DR. |
| 分类号 |
H01G4/33;H01L21/02;H01L23/522;H01L29/92;(IPC1-7):H01L29/92 |
主分类号 |
H01G4/33 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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