发明名称 制造半导体装置之方法
摘要 本发明揭示一种制造一半导体装置之方法。此方法中,提供一半导体装置,其包含一基板(10),该基板(10)采用具有一表面(25)之一低k先驱物层(20)加以覆盖。此步骤后,执行一部分固化步骤,其中在一低k先驱物层(20)之表面(25)处或其附近形成一密集层(30)。此密集层(30)可作为一保护层(30)。该低k先驱物材料(20)系选由具有可在一非固化或部分固化状态下应用之特性的一组材料。此方法之主要优点系不需要对该低k先驱物层(20)提供分离保护层(30),因为该密集层(30)系由该低k先驱物层(20)本身形成。因此该密集层(30)具有与该低k先驱物层(20)之一良好黏着。
申请公布号 TW200631095 申请公布日期 2006.09.01
申请号 TW095102607 申请日期 2006.01.24
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 古川有纪子;约翰 马克尼尔
分类号 H01L21/311;H01L21/768 主分类号 H01L21/311
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰