发明名称 具有接触框架之雷射引发热成像设备
摘要 本发明揭示一种雷射引发的热成像(LITI)设备以及一种利用其来制造一电子装置的方法。该LITI设备包含:一反应室、一基板支撑座、一接触框架、以及一雷射源或振荡器。该LITI设备会将一可转印层从一供膜装置转印至一中间电子装置的一表面上。该LITI设备会使用一磁性作用力来让该可转印层与该中间装置的该表面之间产生紧密接触。该磁性作用力系由形成于该LITI设备中被隔开的两个组件之中的磁性材料所产生,该等两个组件之间会插入可转印层以及该中间装置的该表面。磁铁或磁性材料会形成于该LITI设备的下面两个组件之间:1)该中间装置与该供膜装置之间;2)该中间装置与该接触框架之间;3)该基板支撑座与该供膜装置之间;或是4)该基板支撑座与该接触框架之间。
申请公布号 TW200733801 申请公布日期 2007.09.01
申请号 TW095139700 申请日期 2006.10.27
申请人 三星SDI股份有限公司 发明人 鲁硕原;金茂显;成镇旭;李相奉;金善浩
分类号 H05B33/10(2006.01);H01L51/50(2006.01) 主分类号 H05B33/10(2006.01)
代理机构 代理人 桂齐恒;阎启泰
主权项
地址 韩国