发明名称 |
193奈米浸润式微影的可水式铸模-可水式剥除之顶涂层 |
摘要 |
本发明揭示一种施加在光阻材料顶部之顶涂材料。顶涂材料包含一聚合物,此聚合物在约25℃或低于25℃的温度略溶或不溶于水,但是在约60℃或高于60℃的温度可溶于水。本发明的聚合物包含一聚乙烯醇单体单元及一聚醋酸乙烯酯或一聚乙烯乙醚单体单元,具有下列聚合物结构:其中,R为脂肪族(aliphatic)或脂环(alicyclic)自由基;m及n为独立的整数,且为相同或不同;以及p为零或1。顶涂材料可使用在微影制程,顶涂材料系施加在光阻层上。顶涂材料对于使用水作为成像媒介的浸润式微影技术特别有用。本发明之顶涂材料对于使用有机液体作为浸润媒介的浸润式微影也很有用。 |
申请公布号 |
TW200732850 |
申请公布日期 |
2007.09.01 |
申请号 |
TW095141318 |
申请日期 |
2006.11.08 |
申请人 |
万国商业机器公司 |
发明人 |
菲力浦J. 布拉克;珍妮佛N. 查;达利欧 吉尔;卡尔E. 拉森;玲达K. 山伯;葛瑞格里M. 沃尔瑞 |
分类号 |
G03F7/11(2006.01);C09D129/04(2006.01);C09D131/04(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/11(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
蔡玉玲 |
主权项 |
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地址 |
美国 |