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发明名称
非挥发性记忆体元件及其制造方法
摘要
一种非挥发性记忆体元件,包含:下电极12、设置在下电极12上的上电极17及包含相变材料且连接在下电极12与上电极17之间的记录层18。根据本发明,上电极17与记录层18的生长起始表面18a接触。此结构可以通过在记录层18之前形成上电极17来实现而获得三维结构。此减小了向位线的热扩散而不增加记录层18的厚度。
申请公布号
TW200733360
申请公布日期
2007.09.01
申请号
TW095140387
申请日期
2006.11.01
申请人
尔必达存储器股份有限公司
发明人
浅野勇;泰勒A 洛瑞伊
分类号
H01L27/115(2006.01);H01L21/8247(2006.01)
主分类号
H01L27/115(2006.01)
代理机构
代理人
周良谋;周良吉
主权项
地址
日本
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