IMPROVING THE QUALITY OF A THIN LAYER THROUGH HIGH-TEMPERATURE THERMAL ANNEALING,申请号EP20080719378-传众专利搜索

发明名称	IMPROVING THE QUALITY OF A THIN LAYER THROUGH HIGH-TEMPERATURE THERMAL ANNEALING
摘要
申请公布号	EP2130217(A1)	申请公布日期	2009.12.09
申请号	EP20080719378	申请日期	2008.03.14
申请人	S.O.I. TEC SILICON ON INSULATOR TECHNOLOGIES	发明人	BOURDELLE, KONSTANTIN;NGUYEN, NGUYET PHUONG;SCHWARZENBACH, WALTER
分类号	H01L21/762	主分类号	H01L21/762
代理机构		代理人
主权项
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