雷射退火方法及雷射退火装置

摘要

本发明提供一种雷射退火方法及雷射退火装置，系使照射在非晶质半导体膜(非晶矽等)之矩形状光束之短轴方向的能量分布均匀化。藉由圆柱透镜阵列26或导波路36、聚光光学系统28、44、或藉由包含绕射光学元件之光学系统，即可使矩形状光束之短轴方向的能量分布均匀化。依据本发明，由于照射在非晶质半导体膜之有效能量范围亦变广，随此亦提高基板3之搬运速度，所以可提高雷射退火之处理能力。