| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR EPITAXIAL DEPOSITION OF SEMICONDUCTOR MATERIAL |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US3471326(A) |
申请公布日期 |
1969.10.07 |
| 申请号 |
USD3471326 |
申请日期 |
1965.11.01 |
| 申请人 |
SIEMENS AG. |
发明人 |
RUDOLF KAPPELMEYER;KURT SCHLUTER;HERMANN STEGGEWENTZ |
| 分类号 |
A61K31/54;C07D279/18;C07D417/06;C30B35/00;H01L21/00;H05B3/64;(IPC1-7):C23C13/02;H01B3/02 |
主分类号 |
A61K31/54 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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