| 主权项 |
1﹒一种自含能氧化的杂质之粗含水C1─C4烷磺酸制备纯化C1─C4烷磺酸的方法,该方法包括以有效量的氯处理该粗含水烷磺酸使能氧化的杂质转化为相当烷磺醯氯,并水解该烷磺醯氯成烷磺酸。2﹒根据申请专利范围第1项之方法,其中该烷磺酸系甲磺酸。3﹒根据申请专利范围第1项之方法,其中该粗含水C1─C4烷磺酸系由C1─C4烷硫醇或C1─C4烷基二硫化物与氯于含水盐酸存在中在升温时之反应制备。4﹒根据申请专利范围第3项之方法,其中该粗含水C1─C4烷磺酸以自制备该粗含水C1─C4烷磺酸所用氯供应中转向的氯处理。5﹒根据申请专利范围第3项之方法,其中该粗含水C1─C4烷磺酸于该粗含水烷磺酸之氯处理后经与过热水汽接触而馏脱杂质。6﹒根据申请专利范围第1项之方法,其中该C1─C4烷磺酸系甲磺酸。7﹒根据申请专利范围第6项之方法,其中纯化的含水甲磺酸进一步处理以脱水。8﹒一种自含能氧化的杂质之粗含水C1─C4烷磺酸制备C1─C4烷磺酸的方法,该方法包括以粗含水烷磺酸重量基0﹒1至0﹒8%量之氯处理该粗含水烷磺酸,然后热处理该含水磺酸至约97至约140℃范围之温度历至少约300秒。9﹒根据申请专利范围第8项之方法,其中该烷磺酸系甲磺酸。10﹒根据申请专利范围第8项之方法,其中热处理过的产物经进一步处理以蒸发其中实质全部水。图示简单说明:附图之图l为本发明制法较佳形式之流程图。 |
