| 主权项 |
1.一种于基板上形成空间支撑物的方法,至少包含:提供一治具,其中该治具中并具有复数个微沟槽;使复数个支撑物落于该治具之一面上;震动该治具,使该些支撑物落于该些微沟槽中;涂布一黏胶于一第一基板之一面;使该第一基板具有该黏胶之该面与该治具上之该些支撑物相对并进行压合,使该些支撑物黏合于该第一基板上;以及使该些支撑物由该治具之该些微沟槽中脱离。2.如申请专利范围第1项所述之于基板上形成空间支撑物的方法,其中使该些支撑物落于该治具上系利用流动流体带动该些支撑物。3.如申请专利范围第1项所述之于基板上形成空间支撑物的方法,其中使该些支撑物落于该治具上系利用洒布方式。4.如申请专利范围第1项所述之于基板上形成空间支撑物的方法,更包括当该些支撑物落于该些微沟槽内,使该些支撑物暂时性地固定于该些微沟槽内。5.如申请专利范围第4项所述之于基板上形成空间支撑物的方法,其中上述之微沟槽系贯穿该治具。6.如申请专利范围第5项所述之于基板上形成空间支撑物的方法,更包括提供一第二基板于该治具之另一面,该第二基板与该治具接触之一表面系具有一暂时性黏胶,藉以固定落于该些微沟槽内的该些支撑物。7.如申请专利范围第6项所述之于基板上形成空间支撑物的方法,其中该暂时性黏胶微一紫外线裂解胶。8.如申请专利范围第7项所述之于基板上形成空间支撑物的方法,其中使该些支撑物由该治具脱离之步骤系利用紫外线照射该第二基板,使该紫外线裂解胶失去黏性。9.如申请专利范围第4项所述之于基板上形成空间支撑物的方法,更包括提供一静电固持装置,藉以固定落于该些微沟槽内的该些支撑物。10.如申请专利范围第1项所述之于基板上形成空间支撑物的方法,其中该支撑物为十字型。11.如申请专利范围第10项所述之于基板上形成空间支撑物的方法,其中该支撑物之十字型系位于该微沟槽之斜对角。12.如申请专利范围第1项所述之于基板上形成空间支撑物的方法,其中该支撑物为长方型。13.如申请专利范围第1项所述之于基板上形成空间支撑物的方法,其中该些微沟槽之开口面积系大于底面面积。14.如申请专利范围第1项所述之于基板上形成空间支撑物的方法,其中该些微沟槽中更包括至少一突起物。15.一种栓基板上形成空间支撑物的方法,至少包含:形成复数个微沟槽于一治具中,其中该些微沟槽系贯穿该治具;涂布一紫外线裂解胶于一第一基板上;将该第一基板具有该紫外线裂解胶之一面与该治具相对,并贴合于该治具之一侧,其中该微沟槽系暴露该第一基板具有该紫外线裂解胶之部分表面;使复数个支撑物落于该治具之另一侧之表面上;震动该治具,使该些支撑物落于该些微沟槽中,并利用该第一基板上之该紫外线裂解胶以暂时固定;涂布一永久胶于一第二基板上;将该第二基板具有该永久胶之一面与该治具上之该些支撑物相对并进行压合,使该些支撑物与该第二基板接触;以及使该些支撑物由该些微沟槽中脱离。16.如申请专利范围第15项所述之于基板上形成空间支撑物的方法,其中使该些支撑物落于该治具之另一侧之表面上的步骤,系利用流动流体带动该些支撑物。17.如申请专利范围第15项所述之于基板上形成空间支撑物的方法,其中使该些支撑物落于该治具之另一侧之表面上的步骤,系利用洒布方式。18.如申请专利范围第15项所述之于基板上形成空间支撑物的方法,其中该支撑物为十字型。19.如申请专利范围第18项所述之于基板上形成空间支撑物的方法,其中该支撑物之十字型系位于该微沟槽之斜对角。20.如申请专利范围第15项所述之于基板上形成空间支撑物的方法,其中该支撑物为长方型。21.如申请专利范围第15项所述之于基板上形成空间支撑物的方法,其中该些微沟槽之开口面积系大于底面面积。22.如申请专利范围第15项所述之于基板上形成空间支撑物的方法,其中该些微沟槽中更包括至少一突起物。图式简单说明:第1图至第4图所绘示为根据本发明一较佳实施例,于基板上形成空间支撑物之流程示意图;第5图所绘示较佳空间支撑物的示意图,其中(a)为长条型的空间支撑物,(b)为十字型的空间支撑物;第6图所绘示根据本发明较佳实施例,微沟槽的俯视与剖面结构图;第7图所绘示十字型空间支撑物落于微沟槽中的示意图;第8图所绘示十字型空间支撑物无法落于微沟槽中的示意图;以及第9图所绘示根据本发明另一较佳实施例,微沟槽结构示意图。 |
