发明名称 横向结型场效应晶体管
摘要 一种SiC制的横向JFET,它使用n型SiC衬底,包括具有迁移率高的载流子的沟道区,成品率高。该横向JFET包括:n型SiC衬底(1n);p型SiC膜(2),被形成在n型SiC衬底的正面上;n型SiC膜(3),被形成在p型SiC膜上,包含沟道区(11);源区、漏区(22,23),被分别形成在该n型SiC膜上的、沟道区的两侧;以及栅极(14),与n型SiC衬底相接来设置。
申请公布号 CN1194416C 申请公布日期 2005.03.23
申请号 CN00817600.0 申请日期 2000.12.06
申请人 住友电气工业株式会社 发明人 原田真;弘津研一
分类号 H01L29/80;H01L21/338 主分类号 H01L29/80
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 杨梧;马高平
主权项 1、一种横向结型场效应晶体管,包括:SiC衬底(1),具有栅极(14);第一SiC膜(2),被形成在上述SiC衬底上;以及第一导电型的第二SiC膜(3),被形成在上述第一SiC膜上,包含厚度变薄的沟道区(11)及从两侧接着该沟道区的源区、漏区;上述第一SiC膜(2)由高浓度杂质区(2a)、和该高浓度杂质区以外的具有高电阻的高电阻区(2b,2c,20b,20c,21b,21c)构成,该高浓度杂质区(2a)被设置在上述沟道区(11)下的部分上,宽度与该沟道区相同,具有比该沟道区短的长度,含有浓度值高于上述沟道区的第一导电型杂质的第二导电型杂质。
地址 日本大阪府