发明名称 | 横向结型场效应晶体管 | ||
摘要 | 一种SiC制的横向JFET,它使用n型SiC衬底,包括具有迁移率高的载流子的沟道区,成品率高。该横向JFET包括:n型SiC衬底(1n);p型SiC膜(2),被形成在n型SiC衬底的正面上;n型SiC膜(3),被形成在p型SiC膜上,包含沟道区(11);源区、漏区(22,23),被分别形成在该n型SiC膜上的、沟道区的两侧;以及栅极(14),与n型SiC衬底相接来设置。 | ||
申请公布号 | CN1194416C | 申请公布日期 | 2005.03.23 |
申请号 | CN00817600.0 | 申请日期 | 2000.12.06 |
申请人 | 住友电气工业株式会社 | 发明人 | 原田真;弘津研一 |
分类号 | H01L29/80;H01L21/338 | 主分类号 | H01L29/80 |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 杨梧;马高平 |
主权项 | 1、一种横向结型场效应晶体管,包括:SiC衬底(1),具有栅极(14);第一SiC膜(2),被形成在上述SiC衬底上;以及第一导电型的第二SiC膜(3),被形成在上述第一SiC膜上,包含厚度变薄的沟道区(11)及从两侧接着该沟道区的源区、漏区;上述第一SiC膜(2)由高浓度杂质区(2a)、和该高浓度杂质区以外的具有高电阻的高电阻区(2b,2c,20b,20c,21b,21c)构成,该高浓度杂质区(2a)被设置在上述沟道区(11)下的部分上,宽度与该沟道区相同,具有比该沟道区短的长度,含有浓度值高于上述沟道区的第一导电型杂质的第二导电型杂质。 | ||
地址 | 日本大阪府 |