| 发明名称 |
Projektionsobjektiv, insbesondere für die Mikrolithographie |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE50112813(D1) |
申请公布日期 |
2007.09.20 |
| 申请号 |
DE20015012813 |
申请日期 |
2001.05.02 |
| 申请人 |
CARL ZEISS SMT AG |
发明人 |
SINGER, WOLFGANG DR.;SCHUSTER, KARL-HEINZ |
| 分类号 |
G03F7/20;G02B1/06;G02B3/14;G02B13/14;G02B13/18;G02B17/08 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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