| 发明名称 |
Verfahren zur Eliminierung morphologischer und kristallografischer Defekte in Halbleiteroberflächen |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE10124144(B4) |
申请公布日期 |
2007.12.13 |
| 申请号 |
DE20011024144 |
申请日期 |
2001.05.17 |
| 申请人 |
QIMONDA AG;SILTRONIC AG |
发明人 |
TEMMLER, DIETMAR;KRASEMANN, ANKE;DORNBERGER, ERICH |
| 分类号 |
H01L21/324;H01L21/306;H01L21/322;H01L21/334;H01L21/8242;H01L27/108 |
主分类号 |
H01L21/324 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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