| 摘要 |
L'invention concerne un Substrat pour diffusion Raman exaltée de surface comportant : - un support (3) comportant une surface supérieure (4); - une structure porteuse (2) comportant au moins un motif microstructuré (5), le motif microstructuré (5) comportant un sommet (8) et des parois latérales (7), les parois latérales (7) s'étendant suivant une direction sécante à la direction de la surface supérieure (4); - une multicouche (10) disposée sur les parois latérales (7) du motif microstructuré (5), la multicouche (10) comportant au moins deux couches couches pilier (13), séparées l'une de l'autre par une couche intercalaire (14), chaque couche intercalaire (14) présentant une extrémité (18) en retrait par rapport à une extrémité (19) de chaque couche pilier (13) adjacente de sorte que les extrémités (19) de deux couches pilier (13) successives forment des picots séparés par une cavité (20), les extrémités (19) des couches pilier (13) étant recouvertes par une couche métallique (40). |
