发明名称 APPARATUS AND METHOD FOR REGULATING THE TEMPERATURE IN A PROCESS CHAMBER OF A CVD REACTOR USING TWO TEMPERATURE SENSOR DEVICES
摘要 본 발명은 기판(9)을 열 처리하기 위한, 특히 코팅하기 위한 장치 및 방법과 관계되고, 상기 장치는 제1 온도 센서 장치(7, 12)와 상호작용하는 조절 장치(13)에 의해 조절되는 가열 장치(11)를 구비한다. 온도 드리프트(temperature drift)를 저지하기 위해, 상기 제1 온도 센서 장치(7, 12)의 온도 드리프트를 검출하기 위한, 그리고 상기 제1 온도 센서 장치(7, 12)의 재교정(recalibration)을 위한 제2 온도 센서 장치(8)가 제안된다. 상기 제1 온도 센서 장치(7, 12)는 서셉터(10)의 제1 위치(M, M, M, M, M, M)에서 온도를 결정한다. 상기 제2 온도 센서 장치는 서셉터(10)의 제2 위치에서 온도를 결정한다. 측정 구간(measuring interval)에서 상기 제2 온도 센서 장치(8)에 의해 특히 기판(9)의 표면 온도가 측정된다. 이와 같은 측정값은 설정값과 비교되고, 이때 상기 설정값과 측정된 실제값의 편차에서 보정 인자(correction factor)가 형성되며, 상기 보정 인자는 상기 가열 장치(11)를 조절하기 위해 사용된 상기 제1 온도 센서 장치(7, 12)의 측정값에 공급됨으로써, 상기 제2 온도 센서 장치(8)에 의해 측정된 온도-실제값은 해당하는 온도-설정값에 가까워진다.
申请公布号 KR20160100314(A) 申请公布日期 2016.08.23
申请号 KR20167017544 申请日期 2014.12.15
申请人 AIXTRON SE 发明人 BOYD ADAM;LAUFFER PETER SEBALD;LINDNER JOHANNES;SILVA HUGO;THERES ARNE
分类号 C23C16/52;G01J5/00;G01J5/60 主分类号 C23C16/52
代理机构 代理人
主权项
地址