| 摘要 |
반사성 샘플, 특히, 패턴화된 블랭크 DUV, EUV 마스크를 영상화하기 위한 장치 및 방법은, 광학 시스템을 만드는 단계; 마스크를 노광하여 단색성 화상을 포함한 공중 화상을 얻는 단계; 및 주사 결맞음성 회절법을 이용하여 마이크로 핀홀 시스템에 따라 공중 화상과 연관된 광학 시스템의 광학 파라미터를 개발하는 단계를 포함한다. 상기 장치는 a) 광 빔(22)을 방출하기 위해 비교적 낮은 시간적 또는 공간적 결맞음성을 가질 수 있는, EUV 공급원, DUV 공급원, BEUV 공급원 또는 X선 공급원과 같은 광원(10); b) 방출된 빔을 필요한 정도로 집속하기 위한, 프레넬 판 또는 도넛형 미러와 같은 제1 집속 요소(12); c) 집속된 빔을 분석하고자 하는 샘플(6)을 향해 반사하는 미러(16)로서, 빔은 샘플(6)의 표면의 법선 벡터에 대하여 샘플(6)을 향해 2°내지 25°의 각도로, 바람직하게는 약 6°의 각도로 입사되는, 미러(16); d) 그 제1 애퍼처(a1)가 빔 직경을 필요한 정도로 집속 및 차단할 수 있도록 함으로써, 광원(10)으로부터 초기에 방출된 광 빔(22)과 비교하여 더 단색성이 되도록 빔을 형성하는, 핀홀 애퍼처 판(18); e) 예컨대, 전술한 바람직한 예를 참조하여, 6°와 같은 입사광과 동일한 각도로, 샘플(6)의 상류에 배치된 핀홀 애퍼처 판(18)의 제1 애퍼처(a1)를 통과한 광 빔을 반사하는 샘플(6)을 분석할 수 있도록 하기 위해, 샘플 표면의 법선 벡터에 대해 수직한 방향으로 연속적으로 또는 단계적으로 샘플(6)을 변위시키는 기구(17); f) 상기 핀홀 애퍼처 판(18)은 투명창으로서의 제2 애퍼처(a2)를 갖고, 그 제2 애퍼처는 제1 애퍼처(a1)에 인접하여 배치되어 샘플(6)에 의해 반사된 빔의 직경을 제한함으로써 광 빔의 직경을 조정하는, 상기 핀홀 애퍼처 판(18); 및 g) 제2 애퍼처(a2)를 통과한 반사 빔을 분석하기 위한 화소 검출기(20)를 포함한다. |
