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发明名称 Verfahren zum Herstellen von hochreinen,gegebenenfalls dotierten Halbleiterstoffen
摘要
申请公布号 DE1444420(A1) 申请公布日期 1969.01.16
申请号 DE19621444420 申请日期 1962.09.06
申请人 SIEMENS AG 发明人 ERHARD SIRTL,DR.;HARMUT SEITER,DR.
分类号 C01F15/00;H01L21/00 主分类号 C01F15/00
代理机构 代理人
主权项
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